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硅

1. 基本特性:
   原子量 28.086
   电离电位 8.1 （ev）
   离解能 8.3 （ev）
2. 样品处理:
   LiBO₃; HNO₃+HF+HBO3; NaOH.
3. 分析条件
   分析线 251.6 nm
   狭缝 0.2 nm
   空心阴极灯电流（w） 2.5 mA

4. 干扰:
   光谱干扰:
       元素      谱线（nm）
        Hf        251.7
        V         251.7
   化学干扰:
       K,Na,Al,Ca,H₃PO₄.
5. 标准溶液制备:
   储备液: 1000 ug/ml
       <1>溶解5.056g硅酸钠[Na2SiO3.9H2O]于300ml去离子水中并用盐酸调节PH约为5. 稀释至500ml存于聚乙烯瓶中.
       <2>在铂坩锅中加热15分钟熔化0.241g二氧化硅和4.6g碳酸钠.冷却后用去离子水稀释至100ml并保存于聚乙烯瓶中.
  分析液:
     在每次分析前，用水稀释储备液。同时加氢氧化钠调节钠离子浓度到恒定水平.

6. 火焰标准条件:
   火焰类型 氧化亚氮－乙炔，还原焰（富燃，红色）
   燃气压力 Mpa 流量 l/min
   助燃气压力 Mpa 流量 l/min
   火焰高度（mm） 
   长度（mm） 50
   特征浓度（ug/ml） 1.8
   线性范围（ug/ml） 0--150
其它分析线:
    波长nm      相对灵敏度
    251.6          1.0
    250.7          2.8
    252.8          3.2
    252.4          3.7
    221.7          4.3
    221.1          8.0

7. 火焰发射
   火焰        狭缝（nm）     波长（nm）
  N₂O-C₂H₂       0.2         251.6

8. 石墨炉标准条件
   *灰化温度（鳦） : 1600
   *原子化温度（鳦）: 2800
   特征量 （Pg） : 200
   线性范围（Pg） : 10000

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